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作者
Su‐Hwan Choi,Dong-Gyu Kim,Jae‐Hyeok Kwag,Kie Moon Song,Yeonhee Lee,Chang-Kyun Park,Jin‐Seong Park
摘要
The impact of hydrogen controlled by thermal ALD SiO 2 deposition temperature, to demonstrate ALD IGZO thin film transistor performances.
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