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Enhanced electrochemical performance of NiO surfaces via selective Li+ doping

非阻塞I/O 兴奋剂 电化学 材料科学 化学工程 纳米技术 分析化学(期刊) 化学 光电子学 电极 物理化学 色谱法 有机化学 工程类 催化作用
作者
Tithi Sen,Amrita Biswas,Udayabhanu G. Nair,R. Thangavel,Tapan Kumar Rout
出处
期刊:Physical Chemistry Chemical Physics [Royal Society of Chemistry]
卷期号:26 (42): 27141-27151 被引量:3
标识
DOI:10.1039/d4cp03362k
摘要

The effects of selective Li+ doping on NiO films' structural, optical and electrochemical properties were investigated in this study. Our results highlighted a strong correlation among bandgap modulation, conductivity and selective Li-ion doping on the surfaces of NiO films. Electrochemical impedance spectroscopy (EIS) demonstrated the impact of subtle Li+ doping on the electrochemical behavior of the NiO thin films due to an increase in the diffusion resistance (Rd) up to 49.32 Ω for 0.5% Li-doped NiO, suggesting faster and more efficient hole transport from the electrode to electrolyte unlike NiO:Li4.0% electrodes. A linear and symmetric forward curve demonstrating ohmic behaviour was observed only for 0.5% Li-doped NiO thin films during current-voltage (I-V) analysis. Interestingly, the 0.5% Li-doped NiO films, which exhibited the largest anodic peak area in the CV curve under illumination, outperformed the 4.0% Li-doped NiO films in electrochemical activity, emphasizing the effectiveness of minimal doping.
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