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Effects of post-treatment progress on the morphology and surface state of 4H-SiC trenches
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作者
Qin Hu,
Jiamin Tian,
Jun Du,
Fang Su,
Xixi Luo,
Qizhi Li,
Yidan Chen,
Changrun Cai,
Zhi Liu,
Hongyan Liu,
Wei Zeng,
Kuang-Tse Ho
出处
期刊：
Materials Science in Semiconductor Processing
[Elsevier BV]
日期：2025-12-25
卷期号：205: 110386-110386
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2025.110386
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