ALD en microélectronique - Applications, équipements et productivité
材料科学
作者
Mickael Gros-Jean,Arnaud Mantoux
标识
DOI:10.51257/a-v1-re255
摘要
Cet article est une revue de l’utilisation du depot par couches atomiques dans le secteur de la microelectronique, en termes d’elaboration de couches minces et de realisation de composants. Les applications, la chimie des precurseurs, les mecanismes de croissance ainsi que les differents type de reacteurs (avec ou sans assistance plasma) sont decrits.