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Ultrafast Optomechanical Strain in Layered GeS

超短脉冲 材料科学 之字形的 范德瓦尔斯力 各向异性 化学物理 凝聚态物理 密度泛函理论 压电 分子物理学 光电子学 光学 化学 物理 计算化学 分子 复合材料 激光器 几何学 数学 有机化学
作者
Duan Luo,Baiyu Zhang,Edbert J. Sie,Clara Nyby,Qingyuan Fan,Xiaozhe Shen,Alexander H. Reid,Matthias C. Hoffmann,Stephen Weathersby,Jianguo Wen,Xiaofeng Qian,Xijie Wang,Aaron M. Lindenberg
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:23 (6): 2287-2294 被引量:11
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.2c05048
摘要

Strong coupling between light and mechanical strain forms the foundation for next-generation optical micro- and nano-electromechanical systems. Such optomechanical responses in two-dimensional materials present novel types of functionalities arising from the weak van der Waals bond between atomic layers. Here, by using structure-sensitive megaelectronvolt ultrafast electron diffraction, we report the experimental observation of optically driven ultrafast in-plane strain in the layered group IV monochalcogenide germanium sulfide (GeS). Surprisingly, the photoinduced structural deformation exhibits strain amplitudes of order 0.1% with a 10 ps fast response time and a significant in-plane anisotropy between zigzag and armchair crystallographic directions. Rather than arising due to heating, experimental and theoretical investigations suggest deformation potentials caused by electronic density redistribution and converse piezoelectric effects generated by photoinduced electric fields are the dominant contributors to the observed dynamic anisotropic strains. Our observations define new avenues for ultrafast optomechanical control and strain engineering within functional devices.
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