极紫外光刻
德拉姆
平版印刷术
多重图案
材料科学
光电子学
光刻
抵抗
计算机科学
纳米技术
图层(电子)
作者
Van Tuong Pham,Víctor M. Blanco Carballo,Jeong-Hoon Lee,Werner Gillijns,Soobin Hwang,Ardavan Niroomand,Sara Paolillo,Annaëlle Demaude,Wonchan Lee,Yannick Feurprier,Kathleen Nafus,Nobuyuki Fukui,Bae Nayoung,Yuhei Kuwahara,Ph. Deschepper,Dhruv Tyagi,Philippe Foubert,Vito Rutigliani,Mahtab Sangghaleh,Sandip Halder
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