Self-Limited Behavior Study on Dielectric Quasi-Atomic Layer Etching for Selectivity Achievement

蚀刻(微加工) 电介质 材料科学 选择性 图层(电子) 原子层沉积 光电子学 干法蚀刻 纳米技术 化学 生物化学 催化作用
作者
Xiaoxia Meng,Chao Wang,Xianxiu Qiu,Jun-Qing Zhou
标识
DOI:10.1109/cstic64481.2025.11017795

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