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Record 60.3 mV/dec Subthreshold Swing and >20% Performance Enhancement in Gate-All-Around Nanosheet CMOS Devices using O3-based Quasi-Atomic Layer Etching Treatment Technique

蚀刻（微加工） 纳米片 阈下摆动 摇摆 材料科学 CMOS芯片 光电子学 逻辑门 阈下传导 原子层沉积 图层（电子） 超大规模集成 电气工程 纳米技术 晶体管 MOSFET 工程类 电压 机械工程
作者
Renjie Jiang,Guanqiao Sang,Lei Cao,Jiaxin Yao,Kun‐Lin Yang,Yihong Lu,Xuexiang Zhang,Peng Wang,Junjie Li,Xinyu He,Na Zhou,Yadong Zhang,Zhaohao Zhang,C.C. Zhang,Lianlian Li,Q. Li,Jie Li,Qingzhu Zhang,Huaxiang Yin,Jun Luo
出处
期刊：IEEE Electron Device Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2024-01-01 卷期号：: 1-1
标识
DOI：10.1109/led.2024.3524259
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