Ge/Si(001) Heteroepitaxial Layers Doped in the HW CVD Process by Impurity Evaporation from a Sublimating Ge Source

兴奋剂 杂质 材料科学 蒸发 光电子学 过程(计算) 锗 纳米技术 硅 化学 计算机科学 物理 热力学 操作系统 有机化学
作者
A. M. Titova,В. Г. Шенгуров,С. А. Денисов,V. Yu. Chalkov,А. В. Зайцев,N. A. Alyabina,А. В. Кудрин,A. V. Zdoroveishev
出处
期刊:Semiconductors [Pleiades Publishing]
卷期号:58 (4): 358-363
标识
DOI:10.1134/s1063782624040158
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