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The effects of process temperature on the work function modulation of ALD HfO2 MOS device with plasma enhanced ALD TiN metal gate using TDMAT precursor

作者
Young Jin Kim,Dong-Hwan Lim,Hoon Hee Han,Andrey Sokolov Sergeevich,Yu‐Rim Jeon,Jae Ho Lee,Seok Ki Son,Changhwan Choi
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
日期：2017-05-15 卷期号：178: 284-288 被引量：17
标识
DOI：10.1016/j.mee.2017.05.023
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