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Development of ZrO2 and Ho2O3 as Gate Dielectrics on 4H-SiC Substrate with N2O and O2 Gas Concentration Variations

材料科学 电介质 固体物理学 基质（水族馆） 光电子学 工程物理 凝聚态物理 物理 地质学 海洋学
作者
Ahmad Hafiz Jafarul Tarek,Tahsin Ahmed Mozaffor Onik,Chin Wei Lai,Bushroa Abd Razak,Prastika Krisma Jiwanti,Waqar Azeem,Yingxin Goh,Muhammad Khairi Faiz,Yew Hoong Wong
出处
期刊：Journal of Electronic Materials [Springer Science+Business Media]
日期：2025-02-19
标识
DOI：10.1007/s11664-025-11804-y
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