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Indium-free GZO thin films prepared using plasma-enhanced atomic layer deposition: toward thin film transistor application
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作者
Chun-Yan Shi,
Qi-Zhen Chen,
Zhi-Xuan Zhang,
Chia‐Hsun Hsu,
Ming-Jie Zhao,
Xiaoying Zhang,
Peng Gao,
Wan-Yu Wu,
Dong‐Sing Wuu,
Chien-Jung Huang,
Shui‐Yang Lien,
Wen‐Zhang Zhu
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[Royal Society of Chemistry]
日期：2022-01-01
卷期号：10 (47): 17974-17982
被引量：9
标识
DOI：10.1039/d2tc03052g
摘要
Indium-free GZO thin films have been prepared using PEALD and employed as a channel layer of TFTs.
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