原子层沉积
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作者
Hyeonbin Park,Jae Hun Hwang,Seung Hoon Oh,Jin Joo Ryu,Kanghyeok Jeon,Minsoo Kang,Hyun‐Jun Chai,Ayoung Ham,Gun Hwan Kim,Kibum Kang,Taeyong Eom
出处
期刊：ACS Nano
[American Chemical Society]
日期：2024-08-05
卷期号：18 (33): 22071-22079
被引量：3
标识
DOI：10.1021/acsnano.4c05273
摘要
This study describes a modified atomic layer deposition (ALD) process for fabricating BiO
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