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Interface‐Engineered MoSe 2 ‐Co 9 S 8 Nanoheterostructures with Enhanced Charge Storage Performance for Supercapacitor Application

超级电容器 材料科学 接口(物质) 电荷(物理) 光电子学 纳米技术 电极 电容 复合材料 物理 毛细管数 量子力学 毛细管作用
作者
Sahil Singh,Javed Muhommad,Md. Samim Hassan,Raman Singh Lamba,Varsha Jha,Priyesh Yadav,Sasanka Deka,Sameer Sapra
出处
期刊:Small [Wiley]
卷期号:21 (8): e2408276-e2408276 被引量:24
标识
DOI:10.1002/smll.202408276
摘要

Cobalt-based chalcogenides have emerged as fascinating materials for supercapacitor applications owing to the presence of various mixed valance oxidation states in their structure along with rich electrochemical properties. However, their limited stability and cyclic performance hinder their viability for practical use in supercapacitors. Herein, a facile hot injection colloidal route is demonstrated to design MoSe2-Co9S8 nanoheterostructures (NHSs), which entails the epitaxial growth of Co9S8 nanoparticles (NPs) over the basal planes of ultrathin MoSe2 nanosheets (NSs). The interfacial engineering of the basal planes of MoSe2 NSs with Co9S8 NPs regulates the electronic properties and defects at the interfaces and increases the overall specific surface area and conductivity. As a result, MoSe2-Co9S8 NHSs electrode unveils a substantially higher specific capacitance of 910.5 F g-1 at 1 A g-1current density surpassing their individual counterparts. In addition, it demonstrates worthy solidity, retaining ≈90% of its capacitance and coulombic efficiency of 93.3% after 10,000 charge-discharge cycles at a high charge-discharge current density of 15 A g-1. As a proof-of-concept, coin cells are fabricated using MoSe2-Co9S8 NHSs which show 93% Coulomb efficiency and 86% capacitance retention. This study would pave the way for designing transition metal dichalcogenides (TMDs) - derived NHSs with superior capacitive properties.
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