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Conformal growth of GaP on high aspect ratio Si structured surface via plasma-enhanced atomic layer deposition

材料科学硅三甲基镓原子层沉积薄脆饼图层（电子）沉积（地质）晶体硅镓外延光电子学纳米技术金属有机气相外延冶金古生物学沉积物生物

作者

A V Uvarov,А.С. Гудовских,A I Baranov,A. A. Maksimova,Ekaterina Vyacheslavova,Demid A. Kirilenko

出处

期刊：Surface & Coatings Technology [Elsevier]
日期：2023-12-28 卷期号：477: 130357-130357 被引量：1

标识

DOI：10.1016/j.surfcoat.2023.130357

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