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Enhanced broadband IR absorption and electrical characteristics of silicon variably hyperdoped by sulfur (1018-1021 cm−3) by ion implantation/pulsed laser annealing

材料科学 硅 离子注入 退火（玻璃） 光电子学 离子 激光器 硫黄 吸收（声学） 宽带 分析化学（期刊） 光学 冶金 复合材料 化学 环境化学 物理 有机化学
作者
Ivan Podlesnykh,M. S. Kovalev,Alena Nastulyavichus,Nikita Stsepuro,С. С. Пушкарев,E.A. Kozlova,V. A. Dravin,Andrey Vlasov,P.V. Platonov,S. I. Kudryashov
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2024-08-24 卷期号：184: 108830-108830 被引量：5
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2024.108830
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