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Subgap states in aluminium- and hydrogen-doped zinc-oxide thin-film transistors

材料科学 铝 兴奋剂 锌 薄膜晶体管 氢 薄膜 氧化物 氧化铝 光电子学 冶金 无机化学 纳米技术 图层（电子） 化学 有机化学
作者
Moon Soo Yoon,Dongho Hyun,Heung Sik Kim
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [Royal Society of Chemistry]
日期：2023-01-01 卷期号：11 (29): 9952-9959 被引量：3
标识
DOI：10.1039/d3tc00999h
摘要
The formation of subgap states in atomic-layer-deposited ZnO films is driven by Al 2 O 3 -induced aluminium and hydrogen ion doping.
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