Multiple-step Siconi pre-clean advantages for Ni(Pt)Si film formation in the frame of advanced FDSOI technology development

材料科学 帧(网络) 工程物理 光电子学 技术开发 纳米技术 制造工程 机械工程 工程类
作者
M. Grégoire,Fabriziofranco Morris Anak,Camille Sgrillo,Jean‐Gabriel Mattei,Hugo Nuez,Karen Dabertrand,F. Ponthenier,D. Mangelinck
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:198: 109783-109783 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2025.109783
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