Gas barrier properties of SiON films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperature as a function of the plasma process parameters

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作者
Su B. Jin,Joon S. Lee,Yoon Seok Choi,In Suk Choi,Jeon G. Han
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier]
卷期号:228: S490-S494 被引量:13
标识
DOI:10.1016/j.surfcoat.2012.05.009
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