Pierre Poncet,Mireille Braizaz,Bernard Pointu,Jacques Rousseau,N. Muhlstein
出处
期刊:Journal of Computers [International Academy Publishing (IAP)] 日期:1978-01-01卷期号:75: 287-299被引量:7
标识
DOI:10.1051/jcp/1978750287
摘要
Le systeme Cu/H3 PO4 presente un comportement rythmique en liaison avec la zone d’instabilite situee au debut du palier de polissage. Le phenomene existe dans les conditions usuelles du polissage electrolytique du cuivre mais egalement lorsque certaines conditions experimentales sont modifiees (concentrations, temperature, agitation, orientation et structure de l’anode...). Nous precisons ici les influences de ces diverses grandeurs sur la localisation de la zone d’instabilite et sur les oscillations spontanees du potentiel anodique et de la densite de courant. Ces observations renforcent notre point de vue quant au role essentiel joue par la couche d’oxyde superficiel dans la production du phenomene rythmique.