Wafer-Scale epitaxial molybdenum disulfide ultrathin film on sapphire prepared by low-energy reactive magnetron sputtering

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作者
Chao-Chin Wang,Chih‐Hao Lee
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:659: 159889-159889 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2024.159889
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