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Wafer-Scale epitaxial molybdenum disulfide ultrathin film on sapphire prepared by low-energy reactive magnetron sputtering

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作者

Chao-Chin Wang,Chih‐Hao Lee

出处

期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2024-03-13 卷期号：659: 159889-159889 被引量：2

标识

DOI：10.1016/j.apsusc.2024.159889

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