High-Energy Ion Implantation Using Electrostatic Accelerators

离子 能量(信号处理) 材料科学 离子注入 核工程 物理 工程类 量子力学
作者
D. Steski,Thomas Kubley,Charles Carlson,Florian Krippendorf,M. Rüb,R.C. Koch,Reza Ghandi
出处
期刊:The Materials Research Society Series 卷期号:: 361-376
标识
DOI:10.1007/978-3-031-83056-3_16
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