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Ferroelectricity of Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition on Epitaxial TiN Bottom Electrodes

锡原子层沉积铁电性材料科学外延图层（电子）沉积（地质）电极薄膜原子层外延光电子学纳米技术冶金化学电介质地质学物理化学古生物学沉积物

作者

Yoogeun Han,Juyoung Jeong,Jae-Young Joo,Yeong Gwang Khim,Minseon Gu,Moonsup Han,Young Jun Chang,Hyunchul Sohn

出处

期刊：Journal of Alloys and Compounds [Elsevier BV]
日期：2024-09-01 卷期号：: 176716-176716 被引量：1

标识

DOI：10.1016/j.jallcom.2024.176716

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