Atomic-Layer-Deposited Aluminum Oxide Thin Films Probed with X-ray Scattering and Compared to Molecular Dynamics and Density Functional Theory Models

无定形固体 材料科学 薄膜 氧化物 散射 分子动力学 电子结构 化学物理 原子层沉积 图层(电子) 结晶学 纳米技术 计算化学 化学 复合材料 光学 冶金 物理
作者
Anthony J. Pugliese,Badri Shyam,Gil M. Repa,Anh Hung Nguyen,Apurva Mehta,Edmund B. Webb,Lisa A. Fredin,Nicholas C. Strandwitz
出处
期刊:ACS omega [American Chemical Society]
卷期号:7 (45): 41033-41043 被引量:6
标识
DOI:10.1021/acsomega.2c04402
摘要

A better understanding of amorphous aluminum oxide's structure and electronic properties is obtained through combined experimental and computational approaches. Grazing incidence X-ray scattering measurements were carried out on aluminum oxide thin films grown using thermal atomic layer deposition. The corresponding pair distribution functions (PDFs) showed structures similar to previously reported PDFs of solid-state amorphous alumina and molten alumina. Structural models based on crystalline alumina polymorphs (PDFgui) and amorphous alumina (molecular dynamics, MD) were examined for structural comparisons to the experimental PDF data. Smaller MD models were optimized and verified against larger models to allow for quantum chemical electronic structure calculations. The electronic structure of the amorphous alumina models yields additional insight into the band structure and electronic defects present in amorphous alumina that are not present in crystalline samples.

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