Thermodynamic Analysis of Dissolved Oxygen in a Silicon Melt and the Effect of Processing Parameters on the Oxygen Distribution in Single-crystal Silicon During Czochralski Growth

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作者
Tai Li,Liang Zhao,Guoqiang Lv,Wenhui Ma,Mengyu Zhang,Zhenling Huang,Liang Zhao
出处
期刊:Silicon [Springer Science+Business Media]
卷期号:15 (2): 1049-1062 被引量:10
标识
DOI:10.1007/s12633-022-02059-x
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