mCFET inner spacer cavity etch: process development and challenges

过程(计算) 蚀刻(微加工) 材料科学 计算机科学 光电子学 纳米技术 程序设计语言 图层(电子)
作者
Pallavi Puttarame Gowda,Steven Demuynck,Mohamed Saib,Ann Feyen,A.K. Abdel-Gawad,Naveen Reddy,Alina Arslanova,Alexis Franquet,Rita Tilmann,XiuMei Xu,Bonilla Ramirez,Camila Cavalcante,Andy Peng,Dmitry Batuk,Reda Boufadil,Lucas Petersen Barbosa Lima,Naoto Horiguchi,S. Biesemans,Efrain Altamirano Sánchez
标识
DOI:10.1117/12.3055311
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