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Bulk GaN substrate with overall dislocation density on the order of 105/cm2 fabricated by hydride vapor phase epitaxy

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作者
Shin Goubara,Tohoru Matsubara,Kota Yukizane,Naoki Arita,Satoru Fujimoto,Tatsuya Ezaki,Ryo Inomoto,Keisuke Yamane,Narihito Okada,Kazuyuki Tadatomo
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
卷期号:478: 123-128 被引量:22
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2017.08.020
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