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Improving the thermoelectric performance of Cu-doped MoS2 film by band structure modification and microstructural regulation

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作者

Nan Xin,G.H. Tang,Tian Lan,Yifei Li,Jiawei Kou,Min Zhang,Xin Zhao,Yinan Nie

出处

期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2022-11-08 卷期号：611: 155611-155611 被引量：31

标识

DOI：10.1016/j.apsusc.2022.155611

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