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Ferroelectricity in undoped-HfO2 thin films induced by deposition temperature control during atomic layer deposition
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作者
Kyung Do Kim,
Min Hyuk Park,
Hong Jip Kim,
Yoon Jun Kim,
Taehwan Moon,
Y. H. Lee,
Sangjin Hyun,
Taehong Gwon,
Cheol Seong Hwang
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[Royal Society of Chemistry]
日期：2016-01-01
卷期号：4 (28): 6864-6872
被引量：205
标识
DOI：10.1039/c6tc02003h
摘要
The evolution of ferroelectricity in undoped-HfO
2
thin films is systematically studied by controlling the deposition temperature during atomic layer deposition.
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