Ferroelectricity in undoped-HfO2 thin films induced by deposition temperature control during atomic layer deposition

原子层沉积 材料科学 沉积(地质) 图层(电子) 铁电性 薄膜 光电子学 逐层 纳米技术 化学工程 电介质 沉积物 生物 工程类 古生物学
作者
K. D. Kim,Min Hyuk Park,Hong-jip Kim,Y. J. Kim,Taeho Moon,Y. H. Lee,Seung Dam Hyun,Taehong Gwon,Cheol Seong Hwang
出处
期刊:Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:4 (28): 6864-6872 被引量:163
标识
DOI:10.1039/c6tc02003h
摘要

The evolution of ferroelectricity in undoped-HfO2 thin films is systematically studied by controlling the deposition temperature during atomic layer deposition.
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