Growth Temperature Dependence of TiO2 Thin Films Prepared by Using Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Method

原子层沉积 材料科学 等离子体 图层(电子) 沉积(地质) 薄膜 原子层外延 化学工程 纳米技术 物理 量子力学 工程类 生物 古生物学 沉积物
作者
G. X. Liu,F. K. Shan,W. J. Lee,Byoungchul Shin
出处
期刊:Journal of the Korean Physical Society [Springer Science+Business Media]
卷期号:50 (6): 1827-1827 被引量:24
标识
DOI:10.3938/jkps.50.1827

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