Molecular Structure of 3-Aminopropyltriethoxysilane Layers Formed on Silanol-Terminated Silicon Surfaces

硅烷化 硅醇 X射线光电子能谱 表面改性 胺气处理 材料科学 化学工程 化学 催化作用 高分子化学 有机化学 物理化学 工程类
作者
Robert G. Acres,Amanda Ellis,Jason F. Alvino,Claire E. Lenahan,Dmitriy A. Khodakov,Gregory F. Metha,Gunther G. Andersson
出处
期刊:Journal of Physical Chemistry C [American Chemical Society]
卷期号:116 (10): 6289-6297 被引量:431
标识
DOI:10.1021/jp212056s
摘要

The use of the coupling agent, 3-aminopropyltriethoxysilane (APTES), in the silanization reaction with silanol-terminated silicon is an important surface modification reaction. Of particular importance is that the terminal amine functionalities of APTES are sufficiently exposed to the gas or liquid phase for further modifications, such as amide coupling reactions. Here, metastable induced electron spectroscopy (MIES) and UV photoelectron spectroscopy (UPS) were used to study the composition of the outermost layer of a silanol-terminated Si surface after silanization with APTES. High-resolution X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was used to validate the attachment of APTES to the surface. Density of States (DOS) calculations were employed for interpreting the MIE spectra. Findings showed that amine functionalities covered only a small fraction of the APTES-modified Si surface.
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