Dual near-zero-thickness sealing for the strengthening of cobalt thin films and nanolines for future interconnect applications

材料科学 退火(玻璃) 扩散阻挡层 单层 薄膜 透射电子显微镜 合金 电迁移 化学工程 纳米技术 复合材料 图层(电子) 冶金 工程类
作者
Giin-Shan Chen,Yen-Chang Pan,Wei‐Chun Chen,Chien-Nan Hsiao,Chin-Chia Chang,Yi-Lung Cheng,Jau-Shiung Fang
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:609: 155387-155387 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2022.155387
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