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Deposition behavior of hexamethydisiloxane films based on the FTIR analysis of Si–O–Si and Si–CH3 bonds

六甲基二硅氧烷 等离子体聚合 聚合 分析化学（期刊） 化学 傅里叶变换红外光谱 单体 离解（化学） 化学键 等离子体增强化学气相沉积 等离子体 物理化学 硅 聚合物 有机化学 化学工程 工程类 物理 量子力学
作者
Min Tae Kim
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：1997-12-01 卷期号：311 (1-2): 157-163 被引量：126
标识
DOI：10.1016/s0040-6090(97)00683-4
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