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Fluorine Plasma-Treated ITO Transistors: Reliability and Temperature Dependence From 77 to 375 K
可靠性（半导体）
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作者
Xuanqi Chen,
Yuye Kang,
Gan Liu,
Wei Shi,
Xiaolin Wang,
Qiwen Kong,
Yuxuan Wang,
Rui Shao,
Bich-Yen Nguyen,
Gengchiau Liang,
Kaizhen Han,
Xiao Gong
出处
期刊：
IEEE Transactions on Electron Devices
[Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2026-07-08
卷期号：73 (8): 5099-5105
标识
DOI：10.1109/ted.2026.3706452
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