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作者
Andreas Behrendt,Christian Friedenberger,Tobias Gahlmann,Sara Trost,Tim Becker,Kirill Zilberberg,Andreas Polywka,Patrick Görrn,Thomas Riedl
标识
DOI:10.1002/adma.201502973
摘要
Transparent and electrically conductive gas diffusion barriers are reported. Tin oxide (SnOx ) thin films grown by atomic layer deposition afford extremely low water vapor transmission rates (WVTR) on the order of 10(-6) g (m(2) day)(-1) , six orders of magnitude better than that established with ITO layers. The electrical conductivity of SnOx remains high under damp heat conditions (85 °C/85% relative humidity (RH)), while that of ZnO quickly degrades by more than five orders of magnitude.
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