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Impact of SiO2 hardmask on the DC and RF characteristics of InP HEMTs

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作者
Fugui Zhou,Ruize Feng,Shurui Cao,Zhiyu Feng,Tong Liu,Yongbo Su,Jingyuan Shi,Wuchang Din,Zhi Jin
出处
期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Science+Business Media]
卷期号:34 (29)
标识
DOI:10.1007/s10854-023-11404-8
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