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Development of p-type topcon based on low-temperature PECVD process

材料科学 等离子体增强化学气相沉积 过程（计算） 纳米技术 计算机科学 化学气相沉积 操作系统
作者
Yung-Hsuan Li,Rui Jia,Huibin Chang,Chunlin Guo,Jian Tao,Jiawang Chen,Xing Li,De–Zhen Chen,Yonghong Ren,Feifei Song,Xiaoping Ouyang
出处
期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Nature]
日期：2025-07-01 卷期号：36 (20)
标识
DOI：10.1007/s10854-025-15159-2
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