Controlled in-situ reduction strategy for synthesis of transparent conductive metal meshes using tannic acid-based photoresists

单宁酸 原位 还原(数学) 材料科学 纳米技术 金属 化学工程 化学 有机化学 冶金 工程类 几何学 数学
作者
Xubin Guo,Huan Chen,Haihua Wang,Dong Wang,Qianqian Wang,Wenbing Kang
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier]
卷期号:290: 112196-112196
标识
DOI:10.1016/j.mee.2024.112196

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