Characterization by XAS of NiO thin films prepared by pulsed LASER deposition

材料科学 薄膜 X射线吸收光谱法 脉冲激光沉积 非阻塞I/O 分析化学(期刊) 表征(材料科学) 基质(水族馆) 光电子学 沉积(地质) 光谱学
作者
J. Moscovici,I. Bouessay,Aline Rougier,Alain Michalowicz
出处
期刊:Physica Scripta [IOP Publishing]
卷期号:2005: 326-
标识
DOI:10.1238/physica.topical.115a00326
摘要

Further understanding of the electrochromic mechanism taking place in anodically colored nickel oxide was achieved by XAS. From EXAFS simulation we were able to determine the percentages of electrochemically active phases and confirm the dissolution of the oxidized one, which was previously assumed by electrochemical characterization.
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