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Damascene test structures for the evaluation of barrier layer performance against copper diffusion

作者
P. Motte,M. Swaanen,J. Torrès,Jean Marc Gilet,G. Wyborn
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:55 (1-4): 291-296 被引量:5
标识
DOI:10.1016/s0167-9317(00)00459-7

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