Mo/Al/Mo结构电极的坡度角和关键尺寸差研究

Mo/Al/Mo结构金属作为TFT的电极，刻蚀后的坡度角和关键尺寸差是重要的参数。明确影响坡度角和关键尺寸差的工艺参数，进而控制坡度角和关键尺寸差，这对工艺制程至关重要。本文探究了膜层结构、曝光工艺、刻蚀工艺对坡度角和关键尺寸差的影响，并对刻蚀工艺进行正交试验设计。实验结果表明：Al膜厚每减小60 nm，坡度角下降约9°，关键尺寸差增加0.1 μm。曝光工艺中，显影后烘烤会增加光阻粘附力，导致关键尺寸差减小0.1 μm，同时坡度角增加约9°。刻蚀工艺中，过刻量每增加10%，坡度角下降3.3°，关键尺寸差增加0.14 μm；正交试验结果表明，对关键尺寸差、刻蚀均一性、坡度角影响因素的重要性顺序是：液刀流量＞Air Plasma电压＞水刀流量。经上述探究表明，坡度角和关键尺寸差呈负相关关系，刻蚀程度增加，关键尺寸差增加，而坡度角则减小。可以通过调节工艺参数对坡度角和关键尺寸差进行控制。