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Stacked SiGe/Si I/O FinFET device preparation in a vertically stacked gate-all-around technology

材料科学光电子学退火（玻璃）原子层沉积电介质高-κ电介质栅极电介质图层（电子）电容电压纳米技术电气工程复合材料晶体管化学物理化学工程类电极

作者

Fei Zhao,Yan Li,Huai-Zhi Luo,Xiaofeng Jia,Jiayi Zhang,Xiaotong Mao,Yongliang Li

出处

期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2023-05-27 卷期号：164: 107634-107634 被引量：3

标识

DOI：10.1016/j.mssp.2023.107634

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