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Projecting high depth-to-width aspect ratio of nanolithography with a four-layer metallic waveguide structure

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作者
Xuefeng Yang,Shuxia Zhang,Xiufang Hou,Jian Wang
出处
期刊:Applied Physics A [Springer Science+Business Media]
卷期号:121 (1): 217-221 被引量:2
标识
DOI:10.1007/s00339-015-9412-9

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