A semi-floating gate memory based on van der Waals heterostructures for quasi-non-volatile applications

非易失性存储器 半导体存储器 材料科学 计算机科学 晶体管 异质结 范德瓦尔斯力 光电子学 电子线路 纳米技术 电气工程 物理 计算机硬件 电压 工程类 分子 量子力学
作者
Chunsen Liu,Xiao Yan,Xiongfei Song,Shijin Ding,David Wei Zhang,Peng Zhou
出处
期刊:Nature Nanotechnology [Nature Portfolio]
卷期号:13 (5): 404-410 被引量:414
标识
DOI:10.1038/s41565-018-0102-6
摘要

As conventional circuits based on field-effect transistors are approaching their physical limits due to quantum phenomena, semi-floating gate transistors have emerged as an alternative ultrafast and silicon-compatible technology. Here, we show a quasi-non-volatile memory featuring a semi-floating gate architecture with band-engineered van der Waals heterostructures. This two-dimensional semi-floating gate memory demonstrates 156 times longer refresh time with respect to that of dynamic random access memory and ultrahigh-speed writing operations on nanosecond timescales. The semi-floating gate architecture greatly enhances the writing operation performance and is approximately 106 times faster than other memories based on two-dimensional materials. The demonstrated characteristics suggest that the quasi-non-volatile memory has the potential to bridge the gap between volatile and non-volatile memory technologies and decrease the power consumption required for frequent refresh operations, enabling a high-speed and low-power random access memory.
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