等离子体增强化学气相沉积
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作者
Guo Lihui,Lin Rongming
出处
期刊:Thin Solid Films
[Elsevier BV]
日期:2000-11-01
卷期号:376 (1-2): 249-254
被引量:32
标识
DOI:10.1016/s0040-6090(00)01210-4
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