Growth kinetics of a perfectly flat Bi(110) film during low-temperature deposition and subsequent annealing

退火(玻璃) 无定形固体 双层 扫描隧道显微镜 单层 结晶学 材料科学 化学 分析化学(期刊) 纳米技术 冶金 色谱法 生物化学
作者
Maimi Shimura,Tetsuroh Shirasawa,Ryota Ushioda,Kan Nakatsuji,Hiroyuki Hirayama
出处
期刊:Surface Science [Elsevier]
卷期号:728: 122210-122210
标识
DOI:10.1016/j.susc.2022.122210
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