(Invited) Development of 3-inch AlN Single Crystal Substrates

材料科学 基质(水族馆) 结晶度 氮化物 氮化铝 光电子学 带隙 气相 纳米技术 复合材料 图层(电子) 海洋学 物理 热力学 地质学
作者
Robert T. Bondokov,Kasey Hogan,Griffin Q. Norbury,Justin Mark,Sean P. Branagan,Naoki Ishigami,James R. Grandusky,Jianfeng Chen
出处
期刊:ECS transactions [The Electrochemical Society]
卷期号:109 (8): 13-19 被引量:2
标识
DOI:10.1149/10908.0013ecst
摘要

Aluminum nitride (AlN) substrates with diameter of 2-inch are available at large quantities. The further commercialization of the AlN as a substrate for the ultra-wide bandgap (UWBG) electronics depends on its size (≥ 100 mm), cost, and substrate properties. We developed a method based on the Physical Vapor Transport (PVT) capable of growing large AlN bulk crystals. The resulting AlN substrate diameter was increased from 2-inch to 3-inch. The 3-inch AlN is viewed as intermediate phase for realization of 100 mm AlN. The 3-inch AlN substrate exhibit very good crystallinity and excellent UV transparency.

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