Thermal Transport across Metal/β-Ga2O3 Interfaces

欧姆接触 材料科学 肖特基势垒 金属 热的 肖特基二极管 光电子学 纳米技术 热力学 冶金 图层(电子) 物理 二极管
作者
Jingjing Shi,Chao Yuan,Hsien‐Lien Huang,Jared M. Johnson,Chris Chae,Shangkun Wang,Riley Hanus,Samuel Kim,Zhe Cheng,Jinwoo Hwang,Samuel Graham
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:13 (24): 29083-29091 被引量:24
标识
DOI:10.1021/acsami.1c05191
摘要

In this work, we study the thermal transport at β-Ga2O3/metal interfaces, which play important roles in heat dissipation and as electrical contacts in β-Ga2O3 devices. A theoretical Landauer approach was used to model and elucidate the factors that impact the thermal transport at these interfaces. Experimental measurements using time-domain thermoreflectance (TDTR) provided data for the thermal boundary conductance (TBC) between β-Ga2O3 and a range of metals used to create both Schottky and ohmic electrical contacts. From the modeling and experiments, the relation between the metal cutoff frequency and the corresponding TBC is observed. Moreover, the effect of the metal cutoff frequency on TBC is seen as the most significant factor followed by chemical reactions and defects between the metal and the β-Ga2O3. Among all β-Ga2O3/metal interfaces, for Schottky contacts, Ni/β-Ga2O3 interfaces show the highest TBC, while for ohmic contacts, Cr/β-Ga2O3 interfaces show the highest TBC. While there is a clear correlation between TBC and the phonon cutoff frequency of metal contacts, it is also important to control the chemical reactions and other defects at interfaces to maximize the TBC in this system.

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