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Formation of high aspect ratio fused silica nanowalls by fluorine-based deep reactive ion etching

深反应离子刻蚀 材料科学 纳米压印光刻 制作 反应离子刻蚀 蚀刻（微加工） 模具 抵抗 图层（电子） 纵横比（航空） 平版印刷术 光电子学 纳米技术 复合材料 病理 替代医学 医学
作者
Jung-Rae Park,Aaron Berndt,Young Keun Kim,Ji Sung Lee,Jong Eun Ryu,Daniel Choï
出处
期刊：Nano-Structures and Nano-Objects [Elsevier BV]
日期：2017-10-24 卷期号：15: 212-215 被引量：6
标识
DOI：10.1016/j.nanoso.2017.10.004
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