Synergistic effect of double Schottky potential well and oxygen vacancy for enhanced plasmonic photocatalytic U(VI) reduction

光催化 肖特基势垒 空位缺陷 材料科学 表面等离子共振 等离子体子 吸附 光化学 化学 纳米技术 光电子学 化学工程 纳米颗粒 催化作用 物理化学 结晶学 工程类 二极管 有机化学
作者
Xin Liu,Rui‐Xiang Bi,Zhihai Peng,Lei Lan,Cheng-Rong Zhang,Qiu‐Xia Luo,Ru‐Ping Liang,Jian‐Ding Qiu
出处
期刊:Journal of Hazardous Materials [Elsevier BV]
卷期号:455: 131581-131581 被引量:28
标识
DOI:10.1016/j.jhazmat.2023.131581
摘要

Plasmonic photocatalysis is an effective strategy to solve radioactive uranium hazards in wastewater. A plasmonic photocatalyst Bi/Bi2O3-x@COFs was synthesized by in-situ growth of covalent organic frameworks (COFs) on Bi/Bi2O3-x surface for the U(VI) adsorption and plasmonic photoreduction in rare earth tailings wastewater. The presence of oxygen vacancy in Bi/Bi2O3-x and Schottky potential well formed by Bi and Bi2O3-x interface increased the number of free electrons, which induced localized surface plasmon resonance (LSPR) and enhanced the light absorption performance of composites. In addition, oxygen vacancy improved the Fermi level of Bi/Bi2O3-x, leading to another potential well between Bi2O3-x and COFs interface. The electron transport direction was reversed, thus increasing the electron density of COFs layer. COFs was an N-type semiconductor with specific binding U(VI) groups and suitable band structure, which could be used as an active reaction site. Bi/Bi2O3-x@COFs had 1411.5 mg g-1 removal capacity and high separation coefficient for U(VI) due to the synergistic action of photogenerated electrons and hot electrons. Moreover, the removal rate of uranium from rare earth tailings wastewater by regenerated Bi/Bi2O3-x@COFs was over 93.9%. The scheme of introducing LSPR and Schottky potential well provides another way to improve the photocatalytic effect.
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